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【简答题】
最初只知道一个特殊的硅器件掺杂是用离子注入方法制备的,后经过测量得知: 表面杂质浓度为4×10
13
cm
-3
,峰值在1800Å深处,峰值浓度为5×10
17
cm
-3
。假定离子注入服从对称高斯分布,你能估计出它的注入剂量是多少吗?
题目标签:
离子注入
峰值浓度
表面杂质
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【简答题】[名词解释] 离子注入
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机械工程>特种加工/特种结构考试题目
【单选题】易善复的最大血浆峰值浓度出现在服药后()小时,相当于所给剂量的20%。
A.
2
B.
4
C.
6
D.
8
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【单选题】离子注入层的深度主要取决于离子注入的()。
A.
能量
B.
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【简答题】离子注入后退火的作用是什么?
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【判断题】离子注入法是PN结的制备方法。
A.
正确
B.
错误
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【简答题】简述离子注入退火目的与方法。
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【多选题】离子注入有下面哪种特点:
A.
掺入杂质的浓度可高于该杂质在硅中的固溶度
B.
掺杂可控性好于扩散
C.
工艺方法简单、成本低
D.
与扩散相比离子注入杂质分布横向效应小
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【判断题】离子注入可通过控制注入离子能量,注入时间等调节杂质的浓度和深度。
A.
正确
B.
错误
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【简答题】离子注入主要部件有哪些?
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【简答题】简述离子注入工艺中退火的主要作用?
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