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【简答题】

最初只知道一个特殊的硅器件掺杂是用离子注入方法制备的,后经过测量得知: 表面杂质浓度为4×1013cm-3,峰值在1800Å深处,峰值浓度为5×1017cm-3。假定离子注入服从对称高斯分布,你能估计出它的注入剂量是多少吗?

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