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【单选题】

NMOS管的衬底是

A.
掺杂浓度低的N型半导体
B.
掺杂浓度低的P型半导体
C.
掺杂浓度高的N型半导体
D.
掺杂浓度高的P型半导体
题目标签:衬底
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刷刷题
参考答案:
举一反三

【单选题】VPE制备n+/p-Si,结果pn结进入了衬底,这是什么原因造成的:

A.
自掺杂效应
B.
互扩散效应
C.
衬底表面没清洗干净的缘故
D.
掺杂气体不纯

【单选题】气相外延制备n+/p-Si时,结果pn结进入了衬底,这是什么原因造成的()

A.
自掺杂效应
B.
互扩散效应
C.
衬底表面没清洗干净的缘故
D.
掺杂气体不纯

【单选题】源极及衬底接地时,MOS管栅极()。

A.
对地阻抗极大
B.
对地有数uF的电容
C.
对地有很高的电压
D.
以上都正确
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自掺杂效应
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互扩散效应
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D.
掺杂气体不纯
【单选题】气相外延制备n+/p-Si时,结果pn结进入了衬底,这是什么原因造成的()
A.
自掺杂效应
B.
互扩散效应
C.
衬底表面没清洗干净的缘故
D.
掺杂气体不纯
【单选题】源极及衬底接地时,MOS管栅极()。
A.
对地阻抗极大
B.
对地有数uF的电容
C.
对地有很高的电压
D.
以上都正确
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