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【判断题】
不考虑金半功函数差,氧化层可动电荷,界面固定电荷时,平带电压为零。
A.
正确
B.
错误
题目标签:
固定电荷
功函数
平带电压
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参考答案:
举一反三
【判断题】界面固定电荷QSS通常为正,因此统一降低NMOSFET与PMOSFET的阈值电压。
A.
正确
B.
错误
查看完整题目与答案
【判断题】金属和重掺杂半导体接触时,不论金属和半导体功函数的大小,这种金半接触均为欧姆接触。( )
A.
正确
B.
错误
查看完整题目与答案
【单选题】通常情况下,金属的功函数较大,则形成的肖特基势垒()。
A.
小
B.
大
C.
与半导体的功函数也有关系
D.
不确定
查看完整题目与答案
【简答题】简述平带电压的计算公式。
查看完整题目与答案
【判断题】当金属的功函数小于半导体的功函数,金属和N型半导体接触形成阻挡层。
A.
正确
B.
错误
查看完整题目与答案
【单选题】N型半导体掺杂浓度越高,功函数越小
A.
正确
B.
错误
查看完整题目与答案
【单选题】利用 fopen()函数实现的操作,若打开文件成功,函数返回()。
A.
文件名
B.
文件结构体类型内存空间首地址
C.
文件位置指针
D.
文件路径和文件名
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【判断题】金属的功函数越小,电子脱离金属越难。
A.
正确
B.
错误
查看完整题目与答案
【简答题】金属-半导体功函数差
查看完整题目与答案
【单选题】下列情形中,室温下功函数最小的是
A.
含硼 的硅
B.
含磷 的硅
C.
含硼 含磷 的硅
D.
纯净硅
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A.
正确
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A.
正确
B.
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A.
小
B.
大
C.
与半导体的功函数也有关系
D.
不确定
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【简答题】简述平带电压的计算公式。
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【判断题】当金属的功函数小于半导体的功函数,金属和N型半导体接触形成阻挡层。
A.
正确
B.
错误
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【单选题】N型半导体掺杂浓度越高,功函数越小
A.
正确
B.
错误
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【单选题】利用 fopen()函数实现的操作,若打开文件成功,函数返回()。
A.
文件名
B.
文件结构体类型内存空间首地址
C.
文件位置指针
D.
文件路径和文件名
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【判断题】金属的功函数越小,电子脱离金属越难。
A.
正确
B.
错误
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A.
含硼 的硅
B.
含磷 的硅
C.
含硼 含磷 的硅
D.
纯净硅
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