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【单选题】

CVD中为了保持非晶硅特性,需要添加的元素是()

A.
N
B.
H
C.
Si
D.
O
题目标签:晶硅非晶硅特性
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参考答案:
举一反三

【单选题】散射特性跟粒子的直径与电磁波的波长有关,下列哪种情况下散射特性呈现瑞利散射的特性。( )

A.
粒子直径与电磁波波长基本差不多。
B.
粒子直径远小于电磁波波长。
C.
粒子直径比电磁波波长大的多。

【单选题】单晶硅电池的制造工艺主要流程为()

A.
表面处理→制作绒面→扩散制结→制作电极→制作减反射膜
B.
表面处理→扩散制结→制作绒面→制作减反射膜→制作电极
C.
表面处理→制作绒面→扩散制结→制作减反射膜→制作电极
D.
表面处理→制作减反射膜→制作绒面→扩散制结→制作电极

【单选题】④非晶硅只能做

A.
移位寄存器
B.
图像存储器
C.
图像处理器
D.
控制电路

【单选题】根据SulzerRTA型柴油机的配桨特性可知,超转速限制区域是指(),在()才允许使用,超负荷区域是指允许()运行区。

A.
103%,新船试航时,1小时
B.
104~108%,新船试航时,12小时内允许超负荷1小时
C.
103%,新船试航时,12小时内允许超负荷1小时
D.
104~108%,试验台试车时,12小时内允许超负荷1小时
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A.
粒子直径与电磁波波长基本差不多。
B.
粒子直径远小于电磁波波长。
C.
粒子直径比电磁波波长大的多。
【单选题】单晶硅电池的制造工艺主要流程为()
A.
表面处理→制作绒面→扩散制结→制作电极→制作减反射膜
B.
表面处理→扩散制结→制作绒面→制作减反射膜→制作电极
C.
表面处理→制作绒面→扩散制结→制作减反射膜→制作电极
D.
表面处理→制作减反射膜→制作绒面→扩散制结→制作电极
【单选题】④非晶硅只能做
A.
移位寄存器
B.
图像存储器
C.
图像处理器
D.
控制电路
【单选题】根据SulzerRTA型柴油机的配桨特性可知,超转速限制区域是指(),在()才允许使用,超负荷区域是指允许()运行区。
A.
103%,新船试航时,1小时
B.
104~108%,新船试航时,12小时内允许超负荷1小时
C.
103%,新船试航时,12小时内允许超负荷1小时
D.
104~108%,试验台试车时,12小时内允许超负荷1小时
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